發(fā)布時間：2015年11月30日
需要降低氧化槽鋁離子濃度裝置，同時降低銅離子/鐵離子/鉻離子等金屬雜質(zhì)。不需要經(jīng)常更換氧化槽液，滿足產(chǎn)能
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