產(chǎn)品概述:
PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區(qū)真空氣氛管式爐三個數(shù)字溫度控制器可單獨控制溫度,并可設置30段升降溫程序,溫區(qū)1(加熱區(qū)中心)采用硅鉬棒加熱,另外兩個溫區(qū)用硅碳棒進行加熱,此款管式爐可以形成一個溫度梯度,調(diào)整三個溫區(qū)的溫度,在熱梯度下制備功能材料,同時也適用于CVD法制作薄膜外延生長。爐體采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風冷系統(tǒng),使得殼體的表面溫度小于60度,爐膛的保溫材料采用高純氧化鋁,環(huán)保節(jié)能,可以減少熱量的損失,內(nèi)爐膛表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。
適用范圍:
PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區(qū)真空氣氛管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)之用。用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)工藝等。
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