YZD08-10C等離子清洗機

    YZD08-10C等離子清洗機是利用氣體高壓放電，然后把氣體分解成等離子體；我們?nèi)粘Ｉ�活中常見的有液體，固體和氣體，氣體再升華就形成了等離子體，也就是物質(zhì)的第四種形態(tài)，我們也稱為輝光，所以真空等離子清洗機也叫輝光等離子清洗機。

   

等離子清洗機的優(yōu)點：

1.等離子清洗機不需要氣態(tài)材料進行輔助，減少清潔成本。

2.跟自動化設(shè)備進行配套使用，可以提高清洗產(chǎn)能。

3.等離子清洗機是利用輝光進行清洗機，可以說是全方位的，不用擔(dān)心材料表面凹凸不平，而達不到清潔效果。

4.可以同時處理金屬，塑料，半導(dǎo)體，氧化物，或者是高分子材料都可以處理。

5.由于等離子主要是分解掉有機污染物，所以不用擔(dān)心污染或危害健康。

6.清潔過后不用打掃工作場所，保持生產(chǎn)環(huán)境的潔凈。

7.在清洗過程當(dāng)中可以改善材料表面的活性，親水性，提高材料表面的達因值。

 

等離子清洗機參數(shù)：

型號	YZD08-10C
容量	10升
艙體	200*200*260（不銹鋼艙體外置）
處理過程	自動控制（人機界面) MCU自動與手動方式
功率	300-500瓦
電源	220V
頻率	40KHZ （偏移量小于0.2KHz）
外形型號	600*400*500
工作電流	整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
射頻電源功率	200-500W
特性阻抗	50歐姆
自動匹配真空度	30Pa—100Pa
氣體流量	10—100ml/min(可調(diào))

 

    等離子通常稱作物質(zhì)的第四種狀態(tài)，前三種狀態(tài)是固體、液體、氣體，它們是比較常見的，就存在于我們周圍。等離子在地球上只存在于某種特定環(huán)境，如閃電、極光。就好象把固體轉(zhuǎn)變成氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。離子體能夠?qū)щ姟?br />

等離子技術(shù)的應(yīng)用：
    通過對物體表面進行等離子轟擊，可以達到對物體表面的蝕刻，活化，清洗等目的。可以顯著加強這些表面的粘性及焊接強度，等離子表面處理系統(tǒng)現(xiàn)正應(yīng)用于LCD，LED，IC，PCB，SMT，BGA，引線框架，平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子清洗過的IC可顯著提高焊線強度，減少電路故障的可能性。殘余的感光阻劑、樹脂，溶液殘渣及其他有機污染物暴露于等離子體區(qū)，短時間內(nèi)就能清除。PCB制造商用等離子蝕刻系統(tǒng)進行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物。對許多產(chǎn)品，不論它們是應(yīng)用于工業(yè)。電子、航空、健康等行業(yè)，可靠性都依靠于兩個表面之間的粘結(jié)強度。不管表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的復(fù)合物，等離子體都有潛能改進粘著力，提高終產(chǎn)品質(zhì)量。等離子體改變?nèi)魏伪砻娴哪芰κ前踩�的、環(huán)保的、經(jīng)濟的。它是許多行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)問題的可行的解決方案。

等離子處理的原理：
    給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對物體表面進行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達到表面處理的目的。
    在整個等離子處理過程中，影響等離子處理效果的要素包括過程溫度、射頻功率、氣體分配、真空度、電極設(shè)置、靜電保護等等 YZD08-10C真空等離子清洗機。

YZD08-10C等離子清洗機:

一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序�？梢蕴岣哒麄�工藝流水線的處理效率；
二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；

 

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在全球高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性；
四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好；
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點；
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設(shè)備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝；
七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生；
八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物）都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進行部分清洗；
九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。